【株式会社ウェル】大気圧下で安定的にグロー放電を発生させる『大気圧プラズマ装置』の発売開始

株式会社ウェル(所在地:東京都品川区東品川2-2-25、代表取締役:江田尚之)は 大気圧下で安定的にグロー放電を発生させる大気圧プラズマ装置の発売を開始しました。

株式会社ウェル(所在地:東京都品川区東品川2-2-25、代表取締役:江田尚之)は
大気圧下で安定的にグロー放電を発生させる大気圧プラズマ装置の発売を開始しました。

独自のリアクターヘッドにより、大面積エリアに高密度プラズマを安定的に発生させることで
半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワークの高速処理が
可能になりました。
また、従来の低気圧プラズマ装置のような真空チャンバーを必要とせず、高密度のプラズマが
生成できるようになったことで、桁違いの高速処理と容易な量産インラインシステム構築を
実現いたしました。
すでにお客様向けのサンプル評価と装置の貸出しサービスを開始しております。


◆詳細はこちらよりご覧ください。
http://well-plasma.jp/


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▼ 主な用途
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・半導体ICパッド部ドライ洗浄
・ダイボンディング前処理
・超音波接合前処理
・各種材料の表面改質(親水化、疎水化処理)
・液晶基板の端子洗浄
・FPC基板の表面改質
・ビルドアップ基板のデスミア処理


ウェルは、半導体実装市場の実装技術開発に欠かせない、実装TEG(Test Element Group)チップの
開発・販売をコアとした実装ソリューションビジネスを展開しております。
半導体製品には、大規模なメモリとロジックICをウェハ製造プロセス技術により1チップ化したSOC製品と
メモリ、ロジックIC等の既存ベアチップ品を実装技術により1パッケージング化したSiP(System In Package)
製品があり、当社は、このSiP技術を含め新たな「実装技術」のプロセス開発には欠かせない製品
サービスの提供を推進していきます。

今後、携帯電話やデジタルカメラ等の高性能で小型・軽量化の電子機器市場において、実装技術の
要求は益々高度になり、ウェルではこうした市場要求にいち早く応えるべく、半導体・液晶実装関連市場を
サポートする独自の製品とサービスをご提供してまいります。


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▼ 商品紹介
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・小型卓上型大気圧プラズマ表面改質装置 (MyPL100)  
・300mmウェハ対応大気圧プラズマ表面改質装置 (IHP-100)
・液晶&FPC基板用インラインシステム (ILPシリーズ)   


◆詳細はこちらよりご覧ください。
http://well-plasma.jp/


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【本件に関するお問い合わせ先】
株式会社ウェル
実装ソリューション事業部 プラズマ装置営業
Tel :03(5715)3501
E‐mail :info@welljp.co.jp
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関連URL:http://well-plasma.jp/

企業情報

企業名 株式会社ウェル
代表者名 江田尚之
業種 精密機器

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