日本エバテック、SEMICON Japan 2026(ブース番号E3808)に出展 大型パネル対応「CLUSTERLINE® 600」など新技術を発表
日本エバテック株式会社は、2026年12月9日〜11日に東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan 2026」(東3ホール・ブース番号E3808)に出展します。AI・HPC向けに急成長する次世代半導体パッケージングを支える、最大650×650mm対応の大型パネル向けクラスターツール「CLUSTERLINE® 600」や、200/300mm向けの新世代プラットフォーム「HEXAGON」など、Evatecの薄膜成膜ソリューションを紹介します。
日本エバテック株式会社(本社:大阪市中央区)は、2026年12月9日(水)から11日(金)まで東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan 2026」に出展し、Evatec AG(本社:スイス・トゥルーバッハ)の薄膜成膜装置「CLUSTERLINE®」シリーズの新製品・新技術を紹介します。AI・HPC向けに急成長する次世代半導体パッケージングを支える、600mmクラスのパネルプロセスと、200/300mmウェハ向けの新世代プラットフォームを展示・ご案内します。
【開催概要】
展示会名:SEMICON Japan 2026
会期:2026年12月9日(水)〜12月11日(金)
会場:東京ビッグサイト(東京都江東区)
ブース番号:E3808(日本エバテック/Evatec)
出展社ページ:https://portal2026.semiconjapan.org/co/evatec
【大型パネル対応クラスターツール「CLUSTERLINE® 600」】
パネルレベルパッケージング(PLP)向けのオールインワン・シード層ソリューションです。最大650×650mmのパネルを1枚ずつ処理する大面積クラスターツールで、IC基板およびFOPLPの主要OSAT・IDMで認定済みの量産機です。
・対象:FOPLP、先端IC基板(2µm L/Sまでのファインライン配線)、ガラスコア基板、チップレットパッケージ、TGVシード
・特許取得の大気圧バッチ脱ガス(ABD):各パネルスロットに独立したN2層流を流し、ABF・PID・PIなどの有機基板を精密かつ再現性よく脱ガス
・二周波CCPエッチモジュール:物理エッチ(Arスパッタ)と化学エッチ(RIE)を1モジュールで実現
・スパッタ:回転ターゲットと可動マグネットバーにより、大面積でも優れた膜厚均一性と長いターゲット寿命を実現
・実績値:24枚/時、Ti+Cu密着力 1000N/m超、Rc 1mΩ未満
・最大5プロセスモジュール、SECS/GEM対応、ガラス・EMC・CCL・FR4を直接またはキャリアで搬送
【新世代プラットフォーム「HEXAGON」(200/300mm・WLCSP/FanOut向け)】
高アウトガスの有機材料を処理でき、微細化と低コスト化を支えるパッケージング向けソリューションです。N2層流による大気圧脱ガス(最大44枚のバッチ処理)、in-situペースティングを採用した新世代Arcticエッチ(面内均一性2%未満、キット寿命20,000枚超)、最大90枚/時のドライサイクルタイムを実現します。
【200/300mm対応「CLUSTERLINE® FAMILY」】
PVD、高イオン化PVD、ソフトエッチ、PECVDを統合できる量産向け枚葉クラスターツール・ファミリーです。CLUSTERLINE® 200は100/150/200mmのモジュラーチャックと最大800℃のチャック温度制御により高性能AlN(NanoSmooth™)に対応し、CLUSTERLINE® 300はUBM/RDL、TSV、ファンアウト、高速裏面メタライゼーションに対応します。
【バッチ式真空蒸着装置「BAK」ファミリーと「MULTI BAK」】
2,000台以上の納入実績を持つ、Evatecのバッチ式真空蒸着装置BAKの最新世代ファミリーです。精密光学、オプトエレクトロニクス、半導体分野に向け、多層誘電体膜や金属膜、TCOなど幅広い材料の成膜とエッチングに対応します。0.5mから1.5mまでのラインアップから、スループットとプロセスに最適な機種を選べます。
・全自動化とプロセス制御:排気・成膜・ベントまで全自動化し、独自の「KHAN」システム/プロセスコントローラを搭載。GEM/SECS-II準拠のホスト通信に対応
・広帯域光学モニタリングによるリアルタイムin-situ再最適化で、高難度の光学多層膜の歩留まりを向上
・熱蒸発(ボート)、バレルソース、エフュージョンセル、E-Gun(1〜60ポケット)、PIADなど過去最大のソースレンジ
・主な用途:高レート金属化、光学干渉膜、ITOなどのTCO、SAW/BAW/レーザーバーデバイス
・MULTI BAK:6・8インチウェハ向けに、ロードロックと自動ハンドリングを組み合わせ、スループットとプロセス再現性を高めた蒸着装置。手動カロットロード、または大気ロボットによるカセットtoカセット構成(最大4プロセスモジュール)に対応
【全自動薄膜量産スパッタプラットフォーム「SOLARIS」S151/S380】
5,000台以上の高速光ディスク装置と3,000台以上の半導体PVD装置の経験を融合した、全自動の薄膜量産スパッタプラットフォームです。タッチパネル、熱電発電素子、パワーデバイス、太陽電池、EMIシールドなど、最大15インチ対角のリジッド/フレキシブル基板に、高速・高精度・高信頼の量産ソリューションを提供します。
・SOLARIS S151:最大8インチ(最大成膜領域Ø220mm)またはミニバッチ。最大1,200枚/時、最大6プロセスステーション(RTP、PVD、エッチ、CVD)
・SOLARIS S380:最大15インチ(最大成膜領域Ø380mm、キャリア3.5〜15インチ)。最大900枚/時、最大5プロセスステーション
・同期インデクサによるキャリア並列搬送で、高速処理と低コストオブオーナーシップを実現。ガラス、シリコン、ポリマー基板に対応
・誘電体、金属酸化物、TCO、金属積層、反射防止・防汚コーティングに対応し、均一性はキャリア全面で±2%未満
・自動化ファブへの完全統合と省スペース設計で、クリーンルームコストも抑制
【日本市場へのコミットメント】
Evatecは、日本を先端材料、基板技術、精密製造技術の重要なイノベーション拠点であり、グローバル先端パッケージング市場における戦略的重要市場と位置付けています。SEMICON Japan 2026では、日本国内のお客様、学術研究機関、パートナーの皆さまと、パネルレベルパッケージングやガラスコア基板などの技術開発・量産立ち上げについて直接お話しする機会としてまいります。ブースでは、製品・技術に関するご相談を承ります。ぜひE3808にお立ち寄りください。
【Evatecについて】
Evatec AGは、スイス・トゥルーバッハに本社を置くグローバルな薄膜成膜装置メーカーです。半導体、アドバンストパッケージング、パワーデバイス、MEMS、ワイヤレス、オプトエレクトロニクス、フォトニクス市場へ、スパッタ・エッチング・蒸着・PECVD・PEALDのソリューションを提供しています。(源流は1946年リヒテンシュタイン公国で設立されたBalzers社。約6,000台のシステムを世界へ出荷)
日本エバテック株式会社(2018年7月2日設立)は、Evatec AGの日本法人です。
【本件に関するお問い合わせ】
日本エバテック株式会社 平井
〒541-0041 大阪府大阪市中央区北浜3-1-21 松崎ビル8F
Email:infojp@evatecnet.com
TEL:06-4708-8750
Evatec公式サイト:https://evatecnet.com/jp/
※CLUSTERLINE、NanoSmooth等は Evatec AG の登録商標です。
【資料・製品情報】
CLUSTERLINE® 600 製品ページ:https://evatecnet.com/products/clusterline-family/cln-600/
CLUSTERLINE® 600 カタログ(PDF):https://evatecnet.com/media/hzbdg1j1/evatec_clusterline600_16pp_ed2_dec2021_web.pdf
カタログをオンラインで見る:https://heyzine.com/flip-book/7a7b912be9.html
BAK ファミリー 製品ページ:https://evatecnet.com/products/bak-family/
BAK ファミリー カタログ(PDF):https://evatecnet.com/media/j1flv3y4/evatec_brochure_bakfamily_ed6_nov2023-web.pdf
SOLARIS 製品ページ:https://evatecnet.com/products/solaris-family/
SOLARIS カタログ(PDF):https://evatecnet.com/media/gmknekvm/evatec_brochure_solaris_ed3_march2018.pdf
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添付画像・資料
企業情報
| 企業名 | 日本エバテック株式会社 |
|---|---|
| 代表者名 | ミヒャエル・ペーター ティナー |
| 業種 | 精密機器 |









